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    郑州大学客户

    通告时间:2020-04-16  浏览次数:566

    郑州大学彭先生带领课题小组成员莅临我公司参观考察,由我公司创始人徐晓冬执教亲自接待。

    彭先生对我公司的PECVD装备的有血有肉参数做了详尽询问,对该设备在演示过程中的出色表现给予了充足肯定。


    PECVD介绍:

    该产品是由固态等离子源、空气质子流量控制系统、衬底控温系统、真空系统结合,利用集中总线控制技术的优发官网操作软件。租用于室温至1200℃谱下开展SiO2、SiNx薄膜的冲积,同时可实现TEOS源沉积SiC膜层沉积以及液态气态源沉积其它材料,尤其适合于有机材料上很快保护层膜和一定温度下无损伤钝化膜的冲积。


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