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    代表院新疆理化所

    通告时间:2020-04-16  浏览次数:589

    代表院新疆理化技术研究所引进了我公司计划生产的高真空CVD系统,研究所王先生对我们的产品和劳务给予了充足的确认!


    CVD系统HR1200-110ITD3F

    装备简介:

    化学气相沉积(CVD)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应合成涂层或资料的方式,是半导体工业中运用最为常见的用来沉积薄膜资料的技艺,包括大规模之绝缘材料,以及绝大多数金属材料和五金合金材料。为此我们研发成套的CVD镀膜系统,租用于各大高校材料实验室、研制院所、邮电科学等世界;


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